出展品目
- 低ダメージICPエッチング装置 [SI 500]
- プラズマエンハンスドICP成膜装置 [SI 500 D]
Exhibits
- ICP-RIE plasma etcher [SI 500]
- ICPECVD [SI 500 D]
商社取扱企業
SENTECH Instruments GmbH
国内連絡先
(株)ハイテック・システムズ [ Booth No. G-03 ]
〒222-0033 神奈川県横浜市港北区新横浜3-19-5 新横浜第二センタービル12F
〒222-0033 神奈川県横浜市港北区新横浜3-19-5 新横浜第二センタービル12F
- TEL
- : (045)478-6511
- FAX
- : (045)478-6512
- :
- Web
- : https://www.hightec-sys.com
- 担当
- : 先端システム部
展示製品の特徴
【低ダメージICPエッチング装置 [SI 500]】・独自のプラズマ源PTSA200を搭載することにより、低エネルギーで高密度なプラズマを均一に照射することが可能となり、高いエッチレートと高い選択性、及び、特に低ダメージのエッチングを実現。
・特にガスセンサー、微細光学、パワーデバイスなどのアプリケーションに有効。
【プラズマエンハンスドICP成膜装置 [SI 500 D]】
・独自のプラズマ源PTSA200を搭載することにより、低エネルギーで高密度なプラズマを均一に照射することが可能となり、低温、低ダメージ及び均一性の良い成膜を実現。
・トランジスター(HEMTs)のパッシベーション、バイアスのパッシベーション(TSVs)、OLEDsのパッシベーションなどのアプリケーションに有効。