出展社
Booth No. F-02
WIN Semiconductors Corp.
WIN Semiconductors Corp.
WIN Semiconductors Corp.
No 358, Hwaya 2nd Rd., Hwaya Technology Park, Kuei Shan Hsiang, Tao Yuan Shien、TAIWAN, R.O.C. 33383
- TEL
- : +886(3)3975999
- FAX
- : +886(3)3975069
- : mayachai@winfoundry.com
- Web
- : http://www.winfoundry.com
- 担当
- : Asia Pacific Sales Division Sales Marketing Dept.
取扱製品分野
- 測定器、製造装置、システム
- コンポーネント(アクティブ)
- コンポーネント(パッシブ)
- アンテナ
- 半導体素子、IC
- コネクタ、ケーブル
- 基板、各種材料、PKG
- シミュレータ、そのほかソフト全般
- 設計・測定請負サービス
- 金属・材料加工
- その他
アプリケーション分野
- 4G, 5G移動通信、
次世代ワイヤレスシステム - 衛星・航空通信
- 放送、公共・防災無線
- 高度道路交通システム(ITS)
- レーダー
- IoT(産業、ヘルスケア、農業など)
- 計測システム
- ワイヤレス給電
- マイクロ波応用(マイクロ波加熱、バイオ、医療)
- その他
出展品目
- GaAs Wafer
- GaN Wafer Foundry Service
Exhibits
- GaAs Wafer
- GaN Wafer Foundry Service
展示製品の特徴
■1999年10月に設立されたWIN Semiconductors社は、世界で最初のpure-play 6-inch GaAs ファウンドリで、高速かつ高品質のGaAs MMIC(モノリシックマイクロ波IC)とRFIC(無線周波数IC)の需要の高まりを受けて、3つの先端テクノロジーを有するGaAsウェハFabを設立しました。■わが社は、5MHz〜130GHzのブロードバンド向けアプリケーションに対応したプロセステクノロジーを提供しています。 テクノロジーについては、2µmHBT、0.5µmpHEMT、0.25µmパワーpHEMT、0.25µmE / D pHEMT、0.15µmLNA pHEMT、0.15µm Power pHEMT、0.1µm Power pHEMT、BiHEMTの統合プロセスを含め 、4inchによる0.45µm、0.25µmおよび0.15µm GaN on SiCプロセスをご提供いたします。
■また、上記のプロセスのアプリケーションは、ハンドセット、WiFIアプリケーション、IoT、ベースステーション、ディスクリート低ノイズ/パワーFET、SATOM、VSAT、自動車などのアプリケーションにも適合します。 さらに、次の第5世代アプリケーション向けに適したプロセスですが、0.15µm GaN プロセスと同様、0.15µm GaAs pHEMT procoessも選択肢と対応できるプロセスを開発しました。