出展社
Booth No. J-18
WIN Semiconductors Corp.
No 358, Hwaya 2nd Rd., Hwaya Technology Park, Kuei Shan Hsiang, Tao Yuan Shien、TAIWAN, R.O.C. 33383
WIN Semiconductors Corp.
WIN Semiconductors Corp.
No 358, Hwaya 2nd Rd., Hwaya Technology Park, Kuei Shan Hsiang, Tao Yuan Shien、TAIWAN, R.O.C. 33383
- TEL
- : +886(3)3975999
- FAX
- : +886(3)3975069
- : mayachai@winfoundry.com
- Web
- : http://www.winfoundry.com
- 担当
- : Asia Pacific Sales Division Sales Marketing Dept.
取扱製品分野
- 測定器、製造装置、システム
- コンポーネント(アクティブ)
- コンポーネント(パッシブ)
- アンテナ
- 半導体素子、IC
- コネクタ、ケーブル
- 基板、各種材料、PKG
- シミュレータ、そのほかソフト全般
- 設計・測定請負サービス
- 金属・材料加工
- その他
アプリケーション分野
- 4G, 5G移動通信、
次世代ワイヤレスシステム - 衛星・航空通信
- 放送、公共・防災無線
- 高度道路交通システム(ITS)
- レーダー
- IoT(産業、ヘルスケア、農業など)
- 計測システム
- ワイヤレス給電
- マイクロ波応用(マイクロ波加熱、バイオ、医療)
- その他
出展品目
- GaAs Wafer
- GaN Wafer Foundry Service
Exhibits
- GaAs Wafer
- GaN Wafer Foundry Service
展示製品の特徴
■1999年10月に設立されたWIN Semiconductors社は、世界で最初のpure-play 6-inch GaAs ファウンドリで、高速かつ高品質のGaAs MMIC(モノリシックマイクロ波IC)とRFIC(無線周波数IC)の需要の高まりを受けて、3つの先端テクノロジーを有するGaAsウェハFabを設立しました。■わが社は、5MHz〜130GHzのブロードバンド向けアプリケーションに対応したプロセステクノロジーを提供しています。 テクノロジーについては、2µmHBT、0.5µmpHEMT、0.25µmパワーpHEMT、0.25µmE / D pHEMT、0.15µmLNA pHEMT、0.15µm Power pHEMT、0.1µm Power pHEMT、BiHEMTの統合プロセスを含め 、4inchによる0.45µm、0.25µmおよび0.15µm GaN on SiCプロセスをご提供いたします。
■また、上記のプロセスのアプリケーションは、ハンドセット、WiFIアプリケーション、IoT、ベースステーション、ディスクリート低ノイズ/パワーFET、SATOM、VSAT、自動車などのアプリケーションにも適合します。 さらに、次の第5世代アプリケーション向けに適したプロセスですが、0.15µm GaN プロセスと同様、0.15µm GaAs pHEMT procoessも選択肢と対応できるプロセスを開発しました。